太阳能高品质吸收 膜设计与制造关键技术
    作者: 时间:2018-06-07 打印
     
 

  采用磁控溅射 镀膜方法,结合光学椭偏测试拟合,成功完成了多元组分复合材料成分设计及其制备工艺的优化,获得了制备工艺稳定与光学常数稳定且适合作为太阳光谱吸收层材料的氮化铬及氮氧化铬化合物薄膜材料。结合光学膜系设计与磁 控溅射镀膜工艺,设计并制备获得了一种高品质Cr-N-O太阳能吸收膜,该 吸收膜吸收率、辐射率及其他环境稳定性指标如下:

  1) 太阳光谱吸收率 95%(AM1.5);

  2) 辐射率(法向发射 比)3.7%( 80℃);

  3) 涂层高温耐久性: 涂层表面光学性能的衰减系数0.01;

  4) 涂层的耐老化性: 试验持续 48 小时,涂层吸收率 为原值的 0.99;发射率为原值的 1.00;

  5) 涂层耐盐雾性能: 中性盐雾实验48小时后,涂层、基 材无裂纹、起泡、剥落及腐蚀,盐雾实验后涂层吸收率为94%,辐射率为 4.9%,PC值为0.016(PC=-△α+0.5△εn△α为太阳吸收比 变化值,无量纲; △εn为法向发射比变化 值,无量纲;0.5为法向发射比加权 因子);

  6) 涂层的附着力:无 剥落,达到 GB/T1720 规定的1级。

  7)生产线生产产品 大面积镀膜均匀性达到吸收率变化小于1%,辐射率变化小于 1%,产品表面颜色均 匀性达到△E*≤2.0CIELAB,镀膜成本约 10元/平方米,产品合格 率高于98%。

太阳能高品质吸收 膜生产线

 
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